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型号:

HWN-L2新型纳米激光直写系统

描述:HWN-L2新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号,具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源,以满足后续功能升级换代的需求,使·9游·产品具有更长的生命周期

  • 厂商性质

    生产厂家
  • 更新时间

    2024-01-25
  • 访问量

    784
详细介绍
品牌其他品牌应用领域化工
激光波长405nm特征尺寸100nm
激光功率120mW至300mW(可选)芯片尺寸2英寸
刻写范围50mm×50mm?至?100mm×100?mm(可选)

HWN-L2新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号,具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外,本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源,以满足后续功能升级换代的需求,使·9游·产品具有更长的生命周期。

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